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SDF(SSF)系列激光刻膜機采用半導體泵浦激光器(或全固態(tài)激光器)，光點固定方向不動，工作臺帶動電池板與光點相對運動完成刻膜，刻膜專用X-Y工作平臺，伺服驅動、滾珠絲杠與導軌傳動，通過界面友好的專用控制軟件，方便刻膜路徑的編輯和修改，利用分光系統(tǒng)，同時完成兩路激光同步輸出。
應用領域
激光刻膜機系列廣泛應用于：
太陽能行業(yè)薄膜電池TCO膜、a-Si膜、Al膜的刻膜或劃線。
主要技術參數(shù)
規(guī)格型號 SDF50B SDF10D SSF10B SSF5D
激光波長 1064nm 532nm 1064nm 532nm
激光功率 52W 10W 10W 5W
激光重復頻率 200Hz~50kHz 1kHz~100kHz
刻膜線寬 100μm 80μm
刻膜速度 200mm/s 400mm/s
刻膜精度 ±10μm ±10μm
工作臺幅面 49＇×25＇(1250×640mm) 49＇×25＇(1250×640mm)
冷卻方式 外掛式(一體化)循環(huán)水冷 水冷