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博邦企業(yè)有限公司——深圳分公司，是全亞洲技術(shù)最強(qiáng)、規(guī)模最大、設(shè)備最全、生產(chǎn)力最快的一家具有最新的技術(shù)（真空鍍膜、電鍍）的吸塑廣告公司
博邦廣告有限公司是一家專門從事大型厚片吸塑、真空鍍膜、logo標(biāo)識、汽車標(biāo)識等大型的廣告牌專業(yè)型加工企業(yè)。博邦擁有國際上領(lǐng)先的真空鍍膜技術(shù)和亞洲最精良的真空鍍膜設(shè)備，可以做成尺寸2000*3000mm的產(chǎn)品，可鍍鋁、鍍銅及不銹鋼。主要產(chǎn)品為車標(biāo)系列，如豐田、尼桑、標(biāo)致等。

博邦深圳分公司地址：
深圳市寶安區(qū)福永鎮(zhèn)漢永酒店旁萊福大廈2樓E室
    上海博邦廣告有限公司是一家專門從事大型厚片吸塑、真空鍍膜的專業(yè)型加工企業(yè)。

公司座落于交通便捷的滬寧高速與嘉松公路交匯的上海嘉定地區(qū)，公司目前擁有職員156人，其中高中、中級別以上專業(yè)技術(shù)人員50余人，擁有標(biāo)準(zhǔn)廠房15000多平方米。現(xiàn)擁有兩條大型半自動鍍膜生產(chǎn)線，最大可鍍成品尺寸（2000*3000）mm。擁有大型吸壓吹塑機(jī)近四十臺，最大成型面積(2500*8000)MM，擁有國際最先進(jìn)的德國geiss全自動吸塑機(jī)一臺；擁有大型半自動PC成型機(jī)一臺；可加工PMMA、ABS、PS、PE、PET、PETG、PC等10MM厚度以下的板材；擁有意大利全自動裁邊機(jī)一臺，擁有專業(yè)的吸塑成型產(chǎn)品修邊及裁邊設(shè)備，適合各種型號板材的加工與生產(chǎn)。同產(chǎn)品日產(chǎn)量可達(dá)2000平方米。

    上海博邦廣告有限公司ABS塑膠電鍍車間位上海嘉定區(qū)寶豐路88弄18號，主要生產(chǎn)吸塑燈箱、壓克力吸塑、汽車標(biāo)志電鍍、車標(biāo)電鍍、汽車4S店標(biāo)識及電鍍、壓克力電鍍、透燈光電鍍、廣告標(biāo)牌電鍍、大型ABS電鍍、大型真空鍍膜、真空鍍膜、真空鍍鋁 UＶ真空電鍍的現(xiàn)代化工廠，擁有現(xiàn)代化的生產(chǎn)設(shè)備，專業(yè)加工高要求塑膠水電鍍，真空電鍍。生產(chǎn)設(shè)備有三條全自動大型生產(chǎn)線，代客加工各類型裝飾性塑膠電鍍及功能性塑膠電鍍，按客人不同的品質(zhì)要求進(jìn)行加工，

種塑料加工工藝，主要原理是將平展的塑料片材加熱變軟后，采用真空吸附于模具表面，冷卻后成型，廣泛用于塑料包裝、燈飾、廣告、、裝飾等行業(yè)。
吸塑包裝制品主要包括：
      泡殼、托盤、吸塑盒、也屬稱；真空罩，泡罩等，吸塑包裝設(shè)備主要包括吸塑成型機(jī)、沖床、封口機(jī)、高頻機(jī)、折變機(jī)、封裝形成的包裝產(chǎn)品可分為：插件、吸卡雙泡殼、半泡殼、對折泡殼、三折泡殼等。
      采用吸塑工藝將透明的塑料硬片制成特定凸起形的透明塑料，罩于產(chǎn)品表面,起到保護(hù)和美化產(chǎn)品的作用，將普通的塑料硬片表面粘上一層溶質(zhì)材料，從而使托盤表面有種溶質(zhì)的手感，用來提高包裝品的檔次。
      采用特殊工藝改性材料的吸塑托盤,該材料表面的電阻值小于10的11次放歐姆，主要用于電子、IT產(chǎn)品的靜電托盤。
      吸塑生產(chǎn)用的模具，成本最低是的石膏模，其次的是電鍍銅模，最貴的是鋁模，模具鉆有小孔，用于真空吸附熱化的硬片，形成吸塑產(chǎn)品。
      我們常講的吸塑，采用吸塑成型機(jī)將熱軟化的塑料硬片吸附于模具表面，冷卻后，形成凹凸形狀的塑料。
     

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
一、鍍膜的方法及分類
在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。
主要分為一下幾類：
蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
   蒸發(fā)鍍膜：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。
  蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。
   蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)（圖1[蒸發(fā)鍍膜設(shè)備示意圖]）電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。
   蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。
   為沉積高純單晶膜層，可采用分子束外延方法。生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置如圖2[ 分子束外延裝置示意圖]。噴射爐中裝有分子束源，在超高真空下當(dāng)它被加熱到一定溫度時，爐中元素以束狀分子流射向基片。基片被加熱到一定溫度，沉積在基片上的分子可以徙動，按基片晶格次序生長結(jié)晶用分子束外延法可獲得所需化學(xué)計(jì)量比的高純化合物單晶膜，薄膜最慢生長速度可控制在1單層／秒。通過控制擋板,可精確地做出所需成分和結(jié)構(gòu)的單晶薄膜。分子束外延法廣泛用于制造各種光集成器件和各種超晶格結(jié)構(gòu)薄膜。
   濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。濺射現(xiàn)象于1870年開始用于鍍膜技術(shù)，1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業(yè)生產(chǎn)。常用的二極濺射設(shè)備如圖3[ 二極濺射示意圖]。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入 10-1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法，即將反應(yīng)氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法?；b在接地的電極上，絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動態(tài)平衡時，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進(jìn)行。采用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個數(shù)量級。
   離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。
二、薄膜厚度的測量
隨著科技的進(jìn)步和精密儀器的應(yīng)用，薄膜厚度測量方法有很多，按照測量的方式分可以分為兩類：直接測量和間接測量。直接測量指應(yīng)用測量儀器，通過接觸（或光接觸）直接感應(yīng)出薄膜的厚度。
常見的直接法測量有：螺旋測微法、精密輪廓掃描法（臺階法）、掃描電子顯微法（SEM）；
間接測量指根據(jù)一定對應(yīng)的物理關(guān)系，將相關(guān)的物理量經(jīng)過計(jì)算轉(zhuǎn)化為薄膜的厚度，從而達(dá)到測量薄膜厚度的目的。
常見的間接法測量有：稱量法、電容法、電阻法、等厚干涉法、變角干涉法、橢圓偏振法。按照測量的原理可分為三類：稱量法、電學(xué)法、光學(xué)法。
常見的稱量法有：天平法、石英法、原子數(shù)測定法；
常見的電學(xué)法有：電阻法、電容法、渦流法；
常見的光學(xué)方法有：等厚干涉法、變角干涉法、光吸收法、橢圓偏振法。
下面簡單介紹三種：
1. 干涉顯微鏡法
干涉條紋間距Δ0，條紋移動Δ，臺階高為t=(Δ/Δ0 )*0.5λ，測出Δ0 和Δ，即可，其中λ為單色光波長，如用白光，λ取 530nm。
 
2. 稱重法
   如果薄膜面積A，密度ρ和質(zhì)量m可以被精確測定的話，膜厚t就可以計(jì)算出來：
d=m/Aρ。
3  石英晶體振蕩器法
    廣泛應(yīng)用于薄膜淀積過程中厚度的實(shí)時測量，主要應(yīng)用于淀積速度，厚度的監(jiān)測，還可以反過來（與電子技術(shù)結(jié)合）控制物質(zhì)蒸發(fā)或?yàn)R射的速率，從而實(shí)現(xiàn)對于淀積過程的自動控制。
對于薄膜制造商而言，產(chǎn)品的厚度均勻性是最重要的指標(biāo)之一，想要有效地控制材料厚度，厚度測試設(shè)備是必不可少的，但是具體要選擇哪一類測厚設(shè)備還需根據(jù)軟包材的種類、廠商對厚度均勻性的要求、以及設(shè)備的測試范圍等因素而定。
三、真空鍍膜機(jī)保養(yǎng)知識：
1. 關(guān)閉泵加熱系統(tǒng)，然后分離蒸鍍室（主要清潔灰塵，于蒸鍍殘?jiān)?br /> 2. 關(guān)閉電源或程序打入維護(hù)狀態(tài)
3. 清潔卷繞系統(tǒng)（幾個滾軸，方阻探頭，光密度測量器）
4. 清潔中罩室（面板四周）
5. 泵系統(tǒng)冷卻后打開清潔（注意千萬不能掉入雜物，檢查泵油使用時間與量計(jì)做出更換或添加處理）
6. 檢查重冷與電氣柜設(shè)備
這次實(shí)習(xí)給了我們了解了鍍膜技術(shù)的原理、技術(shù)，使我們了解了工廠的生產(chǎn)，感覺很新穎，收獲很多。

       我們的服務(wù)宗旨是：“專業(yè)鑄造精品！以專業(yè)成就品牌！以專業(yè)同享與客戶共贏發(fā)展。”

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