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SWE-UV7型PCB雙面曝光機(jī)

  • 發(fā)布日期:2007-04-28 瀏覽次數(shù)461

  一、主要用途:
  干膜、濕膜、內(nèi)層雙面或單面曝光。

  二、主要系統(tǒng):
  曝光控制、光源、冷卻、臺(tái)面真空、電控等。

  三、曝光控制:
  采用觸摸式控制,全數(shù)字化設(shè)定操作,能量控制精確。

  四、光源系統(tǒng):
  常態(tài)點(diǎn)燈方式,并裝有動(dòng)作靈巧的自動(dòng)遮光器之設(shè)置。

  五、冷卻系統(tǒng):
  光源冷卻,采用間接式水冷,冷卻方式以蒸餾水置于石英玻璃水套內(nèi),經(jīng)板式熱交換器充分進(jìn)行熱交換,使效率發(fā)揮致極點(diǎn),曝光臺(tái)面采用強(qiáng)制氣冷方式,且可控制溫度。

  六、真空系統(tǒng):
  采用MYLAR薄膜對(duì)玻璃配合真空系統(tǒng)之強(qiáng)大吸力,達(dá)到緊密配合之高效果。

  七、保護(hù)措施:
  漏電保護(hù),緊急開關(guān),異常訊息警報(bào)及顯示,水箱之水溫過高保護(hù),冷卻異常自動(dòng)熄滅,冷卻循環(huán)水壓力異常自動(dòng)熄燈等。

  八、技術(shù)參數(shù):

項(xiàng) 目 規(guī) 格 項(xiàng) 目 規(guī) 格
電源 AC 3φ 380V 00A 50HZ 監(jiān)控系統(tǒng) 自我診斷功能及異常訊息提示
光源系統(tǒng) 7KW鹵化金屬燈2支 曝光量控制 UV能量積算器
有效曝光面積 850mm×650mm 照度均勻性 85%以上
曝光框架 上層:MYLAR薄膜
下層:強(qiáng)化玻璃
燈管壽命 800h,30mv/cm2±5%
冷卻水源 10噸之冷卻水塔,2-3kgf/cm2 真空裝置 干式真空泵浦,正常操作下真空壓力650mm/hg以上
臺(tái)面冷卻方式 氣冷式冷卻 機(jī)臺(tái)尺寸 2700mm×1400mm×1765mm
燈管冷卻方式 間接式水冷 重 量 約1000kg
控制方式 觸摸式人機(jī)介面

 

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