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鋁材銘牌的表面裝飾處理

  • 發(fā)布日期:2009-10-13 瀏覽次數(shù)681

銘牌用鋁的選擇

在金屬銘牌的產(chǎn)品中,鋁銘牌的比例,大約要占金屬銘牌的90%以上,在半個多世紀以來,用鋁板制作銘牌,一直經(jīng)久不衰,其主要的原因就在于鋁最具有裝飾表現(xiàn)力,很多表面裝飾的工藝,都能在鋁材上得到應(yīng)用和發(fā)揮,便于獲得五彩繽紛、多種組合的高級裝飾層。

在鋁和鋁合金中因含有不同含量的其他各類元素的成分,如鐵、硅、銅等。當(dāng)在化學(xué)與電化學(xué)過程中,這些雜質(zhì)元素與主元素所需要的處理條件往往是不相一致的。以蝕刻工藝的銘牌為例,某一種蝕刻液,不可能對所有的雜質(zhì)元素都有效,以致雜質(zhì)含量高的鋁板其蝕刻的完整性與均勻性差,甚至使蝕刻工藝無法進行,因此,如鋁銅合金、鋁硅合金都不適宜制作蝕刻銘牌。

銘牌用鋁,當(dāng)然與所選擇的工藝有關(guān),一般地講,其雜質(zhì)的含量總和不宜超過4%。

在電化學(xué)過程中,鋁合金中的其他雜質(zhì)元素,如含量過高,往往會破壞電解液的成分比例而影響氧化膜的生成及其對染料的吸附作用。因此,應(yīng)有選擇性地使用鋁合金制作氧化染色銘牌。在一般情況下,鋁合金含銅量大于3.7%時,氧化膜質(zhì)量差;當(dāng)電解液溶解銅的含量超過0.02g/L時,氧化膜層會出現(xiàn)明顯斑點或暗色條紋。如用硫酸交流電陽極氧化含銅量較高的鋁合金時,所得氧化膜層帶綠色;當(dāng)鋁合金中含硅量大于0.8%時,氧化膜層呈暗灰色,其氧化和染色效果均差。

鍛鋁合金的含硅量較高,部分超硬鋁及五號以上的硬鋁合金其含銅量較高,都不適合制作氧化染色銘牌。而純鋁及大部分鋁合金均可用于制作氧化染色銘牌,其中以高純鋁、l~2號工業(yè)純鋁及鋁鎂合金等為較理想的氧化染色銘牌用鋁。

鋁表面機械法精飾

用機械的方法對鋁材表面進行精飾,實際上就是以物理的方法使鋁材所具有的某些物理特性得以充分表現(xiàn),以達到精飾外表的目的。通常這種工藝手段是用于對鋁材的粗處理,以便為獲得精細的修飾創(chuàng)造條件。但是,一些特定的操作工藝,不僅可以獨立運用,甚至具有其他加工手段所無法獲得的裝飾效果。

一、拋光

機械拋光的目的,是為了清除鋁材表面的粗糙部分或去除原有的劃痕。它一方面是借助于磨料的切削作用,磨去了金屬表面微觀的凸起部分;另一方面在磨削的作用力下產(chǎn)生金屬的滑移(引起鋁材表面結(jié)構(gòu)的變化,使表面形成一層很薄的非晶體),從而降低鋁材表面的粗糙度。

隨著纖維狀研磨新材料的發(fā)展,在國內(nèi)已開始運用“紗筋輪”和“孕砂氈輪”等新型的拋磨制品代替?zhèn)鹘y(tǒng)的布拋輪。纖維狀研磨材料及其制品,是在無紡纖維(如滌綸、腈綸)上孕蓄和黏結(jié)上一定粒度和一定硬度的磨料,制成柔軟與堅硬程度各異的拋磨工具。它具有噪聲小、污染少、效率高的特點,不僅改善了操作條件,同時也改善了被加工材料的表面狀態(tài)。

拋光是鋁材精飾的基本工序。一般它應(yīng)用在對基材的前級處理,為鋁材造就平整、光亮的表面。為了達到某種目的,有時也穿插在工序間進行。

拋光設(shè)備,長期以來都未見有大的改進。通常的拋光機是將鋁板平放在墊板上,靠向磨輪拋磨,一不小心鋁板端部就會被拋光輪掀起,甚至產(chǎn)生傷害;對大尺寸的鋁板需掉頭拋,中間往往出現(xiàn)接頭痕跡。圖1為改進的臺式拋光機。

其工作臺共為三層結(jié)構(gòu):上層為放置鋁板的平臺,兩側(cè)裝有滾輪,能做前后運動;中層為過渡框架,可做左右滾動,促使工作平臺能做橫向、豎向任意移動;底層為一端可翹起的臺板。由腳踏控制底層臺板,使整個工作臺呈一定角度與拋輪接觸,手執(zhí)工作平臺把手,控制工作臺的進給量。此設(shè)備較好地改善了鋁板的拋光作業(yè)。

二、刷光與緞面

1.刷光

刷光能造就鋁板柔和的啞光型色調(diào),適用于不需要十分光亮的銘牌底層。刷光工藝較簡單,主要是借助“老粉”(即碳酸鈣)作磨料,用尼龍或鬃毛平板刷按照鋁板壓延的平行方向,往復(fù)摩擦,使鋁材基體顯得柔和而光潔。刷光在銘牌工藝中占有很大的比例,勞動強度大,很多廠家雖然自制刷光設(shè)備,但效果不一。

專用的刷光設(shè)備,一般均具有刷光沖洗、烘干等聯(lián)動功能。常見的有H78610/2K型刷光刷與Yss-A.B型刷板機。

采用刷板機進行鋁板的刷光,一般都是密封操作、半自動機械作業(yè),從而改善了勞動條件,提高了工作效率。刷光刷機性能主要參數(shù)如下。

加工工件尺寸:寬158~580mm; •

加工粗糙度:長152mm~任意長;

加工深度:0.2~1μm;

工件傳送速度:0.6~1.5m/min

 

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