PMMA光刻膠是電子束正膠，其主要的特點就是超高分辨率、高對比度、可見光有高透過率。PMMA的缺點是抗等離子刻蝕能力比較差，不如大多數(shù)光刻膠，所以一般PMMA不用來做干法刻蝕的掩模，而是作為金屬溶脫（lift-off）的掩模。PMMA光刻膠應用范圍：納米尺度的光柵，納米尺度的電子器件，納米結構，波導，金字形刪或蘑菇形刪（需要雙層結構），量子點，犧牲層。南京百思優(yōu)科技有限公司生產(chǎn)的PMMA光刻膠種類齊全，不同的系列中包含了各種分子量，各種溶劑（氯苯，乳酸乙酯，苯甲醚）以及各種固含量的PMMA，適合目前各種電子束曝光應用的電子束正膠。能滿足集成電路生產(chǎn)中掩膜加工的高質量要求。PMMA光刻膠也可用于多層工藝，在玻璃、金屬和硅等材料表面的附著力非常好。用低固體含量的型號可以得到30nm厚膜，特別適合制成納米圖形。