PMMA光刻膠是電子束正膠，其主要的特點(diǎn)就是超高分辨率、高對(duì)比度、可見(jiàn)光有高透過(guò)率。PMMA的缺點(diǎn)是抗等離子刻蝕能力比較差，不如大多數(shù)光刻膠，所以一般PMMA不用來(lái)做干法刻蝕的掩模，而是作為金屬溶脫（lift-off）的掩模。PMMA光刻膠應(yīng)用范圍：納米尺度的光柵，納米尺度的電子器件，納米結(jié)構(gòu)，波導(dǎo)，金字形刪或蘑菇形刪（需要雙層結(jié)構(gòu)），量子點(diǎn)，犧牲層。南京百思優(yōu)科技有限公司生產(chǎn)的PMMA光刻膠種類齊全，不同的系列中包含了各種分子量，各種溶劑（氯苯，乳酸乙酯，苯甲醚）以及各種固含量的PMMA，適合目前各種電子束曝光應(yīng)用的電子束正膠。能滿足集成電路生產(chǎn)中掩膜加工的高質(zhì)量要求。PMMA光刻膠也可用于多層工藝，在玻璃、金屬和硅等材料表面的附著力非常好。用低固體含量的型號(hào)可以得到30nm厚膜，特別適合制成納米圖形。