PMMA光刻膠是電子束正膠,其主要的特點(diǎn)就是超高分辨率、高對(duì)比度、可見(jiàn)光有高透過(guò)率。PMMA的缺點(diǎn)是抗等離子刻蝕能力比較差,不如大多數(shù)光刻膠,所以一般PMMA不用來(lái)做干法刻蝕的掩模,而是作為金屬溶脫(lift-off)的掩模。PMMA光刻膠應(yīng)用范圍:納米尺度的光柵,納米尺度的電子器件,納米結(jié)構(gòu),波導(dǎo),金字形刪或蘑菇形刪(需要雙層結(jié)構(gòu)),量子點(diǎn),犧牲層。南京百思優(yōu)科技有限公司生產(chǎn)的PMMA光刻膠種類齊全,不同的系列中包含了各種分子量,各種溶劑(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各種固含量的PMMA,適合目前各種電子束曝光應(yīng)用的電子束正膠。能滿足集成電路生產(chǎn)中掩膜加工的高質(zhì)量要求。PMMA光刻膠也可用于多層工藝,在玻璃、金屬和硅等材料表面的附著力非常好。用低固體含量的型號(hào)可以得到30nm厚膜,特別適合制成納米圖形。