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激光刻膜機

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單 價: 面議
品 牌: 未填寫
所在地: 湖北武漢市
更 新: 2025-11-10
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公司基本資料信息
 
 
SEF-G5:激光刻膜機/刻膜機/激光刻膜/非晶硅薄膜太陽電池刻膜機/背電極膜刻膜機

產(chǎn)品特點:半導體端面泵浦光纖耦合全固態(tài)激光器;膜面朝上非接觸式工作臺;直線電機驅動;四路同步輸出;自動識別跟蹤定位;自動進出料;在線監(jiān)測;靜態(tài)顯示  

技術參數(shù): 

型號規(guī)格:SEF-G5

有效加工幅面:1.1m×1.4m(或635mm×1245mm ) 

最大運行速度:2000mm/s

重復定位精度:±10μm  

刻線直線度:±10μm / 1000 mm  

典型刻膜線寬:30~60μm  

三線外沿總寬度:300~500μm  

選項和配件: 

高標配,可根據(jù)需要移除不需要的部件。 

應用和市場:非晶硅薄膜太陽電池的透明導電膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背電極膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻線、切割),其它薄膜電池的膜層刻膜(金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜)?!?/P>

 

 


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