預涂感光平版（又稱PS版）從50年代開始應用至今， 以其分辨率高、網(wǎng)點光潔、耐印力高等特點，逐步替代蛋 白版、多層金屬版等版材，成為現(xiàn)代快速印刷的新型版 材。目前，正常情況下， PS版的耐印力一般在 10萬印左 右，經過烘烤的 PS版耐印力可提高 3－ 5倍，達到 30萬一 50萬印，但現(xiàn)在有許多廠家反映 PS版耐印力不高，一般 只有2萬一3萬印，甚至才印幾千張就開始掉版。這里，本 人僅就個人經驗，依照PS版生產工藝流程，對PS版耐印力進行版材生產和制版工序的粗略探討和分析。
一、版材選擇
PS版的版基是鋁。用于PS版的鋁材，屬于一般工業(yè) 級純鋁，厚度一般在0．3mm，含量為99．5%．主要雜質為 鐵和硅，其次是銅、鎂、鋅、錳、鈦等。鋁板中少量雜質 的存在，能提高純鋁的抗拉強度和硬度，減小延伸率，降 低鋁的導電性能。
二、感光劑的組成和涂布
PS版用感光劑由感光性物質、成膜性高分子樹脂、染 料、有機溶劑組成。對于單獨使用光敏劑配成感光劑涂布 的感光層，其耐堿性強，成膜性差，顯影困難；在光敏劑 中加入適量的酚醛樹脂。雖耐堿性較差，但成膜性和吸附 性得以提高，兩者的配比為0.5:1或0.62:1，如果光敏 劑少，成膜樹脂多，則耐堿性降低，網(wǎng)點易損失，殘膜率 低，直接降低印版耐印力。
PS版感光劑的涂布需用專用涂布機，才能保證涂 布后的感光層厚薄均勻。涂布機一般分為單張版和卷 筒版兩類。在涂布方式上，有鋪流式、輥涂式、擠壓 式和靜電涂布式。我們不提倡使用離心式涂布。我國 常用輥涂式，為保證涂布質量，一般陰圖型感光層固 體含量為 1g／m2左右。陽圖型為 2-2.5g／m2，厚度一 般為(20±1.0)mg/dm2。當涂布產生橫向條紋等故 障時應及時排除。
三、PS版的制版
PS版制版的關鍵是最大限度地再現(xiàn)膠片的網(wǎng)點和階 調，在印版表面形成牢固的親油基礎和穩(wěn)定的親水基礎。 否則，不僅浪費了時間，更嚴重的是降低了印版耐印大， 浪費版材。直接影響制版質量的一系列因素包括制版原 版．PS版的網(wǎng)點再現(xiàn)性，制版設備和條件。制版工藝和操 作，特別是曝光、顯影條件等。
1．曬版原版
PS版的陽圖或陰圖原版，可用傳統(tǒng)的照相制版、電 子分色及照排等方法制成。除了階調再現(xiàn)曲線應有所調 整外，還必須注意原版的密度反差和網(wǎng)點光潔度。由于 原版的Y值過低，曝光、顯影不足或減薄過度等原因。容 易形成密度低的軟性網(wǎng)點或者是中間密度大，邊緣密度 小的活性網(wǎng)點。這兩類網(wǎng)點的曬版穩(wěn)定性差，曝光、顯 影稍有變化，就會使印版深淺不一，從而直接影響印版 耐印力。硬性網(wǎng)點的原版，由于密度高，網(wǎng)點光潔，曝 光和顯影的寬容度都較大。所以質量穩(wěn)定。因此，曬版 用原版字跡圖案必須清晰且要密度大，反差大。以華光 牌YZ－600 11型膠片為例．原版最大密度應在4.0以上。 最小密度在0.05以下，反差系數(shù)在8.0以上，版面清潔 減少灰霧度和拼貼。
2.曬版光源
對于曬版光源。由于感光劑的感光是一個氧化還原反 應。只有感光劑充分吸收T足夠的光能才能發(fā)生，并且它的分解、交聯(lián)、合的程度是和所需光線強度和光照時間 成正比的，因此，曬版光源的發(fā)射光譜與感光劑光敏曲線 的敏感區(qū)應盡量匹配。實驗證明，陽圖型感光刺的分光感 度在300nm－460nm以內，附圖型在200nm－500nm以內。 考慮到曬版原版和曬版玻璃的影響。光譜設計在350nm－460nm區(qū)域內較適宜，因此，現(xiàn)在曬制PS版的較理想光 源為碘鎵燈。
3.曝光量
在正常的制版過程中。曝光量是影響網(wǎng)點變化和版面 深淺的最主要因素。我們知道，曬版曝光量=照度×曬版 時間。由于常用的PS版陽圖型屬于光分解型。因此，當曝 光量超過臨界光量值，即曝光過度時，網(wǎng)點就會縮小，細 筆劃和小網(wǎng)點難以再現(xiàn)；當曝光量小于臨界光量值，即曝 光不足時。網(wǎng)點就會相應擴大變粗。使版面起臟，影響版 面深淺。因此，在曬版過程中，對于曝光量的控制。應采 用連續(xù)調發(fā)梯尺或是布魯納爾測試條進行監(jiān)控，其作用就 是在顯影后檢查曝光量是否合適。一般打樣版控制在3－4級（密度為0.4－0.55），印刷版控制在4.5－5.5級（密 度為0.625－0.775）曬白不吸墨。在曬制陽圖版時，如能 將0.5％的小點子和99.5％空心點子成對曬出來，這樣的 印版才算合格。
4.顯影
PS版的顯影在于去除空白部分的感光層，使PS版版 基表面保持親水性能。它是PS版制版過程中的重要環(huán)節(jié)， 不僅受感光劑性質和原版狀態(tài)的制約，更受到顯影條件如 顯影液的濃度、溫度、疲勞程度以及顯影時間等的影響。
?。?）濃度的影響
