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對(duì)PS版耐印力的粗略探討和分析

  • 發(fā)布日期:2006-06-15 瀏覽次數(shù)814
 

  預(yù)涂感光平版(又稱PS版)從50年代開(kāi)始應(yīng)用至今, 以其分辨率高、網(wǎng)點(diǎn)光潔、耐印力高等特點(diǎn),逐步替代蛋 白版、多層金屬版等版材,成為現(xiàn)代快速印刷的新型版 材。目前,正常情況下, PS版的耐印力一般在 10萬(wàn)印左 右,經(jīng)過(guò)烘烤的 PS版耐印力可提高 3- 5倍,達(dá)到 30萬(wàn)一 50萬(wàn)印,但現(xiàn)在有許多廠家反映 PS版耐印力不高,一般 只有2萬(wàn)一3萬(wàn)印,甚至才印幾千張就開(kāi)始掉版。這里,本 人僅就個(gè)人經(jīng)驗(yàn),依照PS版生產(chǎn)工藝流程,對(duì)PS版耐印力進(jìn)行版材生產(chǎn)和制版工序的粗略探討和分析。

   一、版材選擇

    PS版的版基是鋁。用于PS版的鋁材,屬于一般工業(yè) 級(jí)純鋁,厚度一般在0.3mm,含量為99.5%.主要雜質(zhì)為 鐵和硅,其次是銅、鎂、鋅、錳、鈦等。鋁板中少量雜質(zhì) 的存在,能提高純鋁的抗拉強(qiáng)度和硬度,減小延伸率,降 低鋁的導(dǎo)電性能。

  二、感光劑的組成和涂布

    PS版用感光劑由感光性物質(zhì)、成膜性高分子樹(shù)脂、染 料、有機(jī)溶劑組成。對(duì)于單獨(dú)使用光敏劑配成感光劑涂布 的感光層,其耐堿性強(qiáng),成膜性差,顯影困難;在光敏劑 中加入適量的酚醛樹(shù)脂。雖耐堿性較差,但成膜性和吸附 性得以提高,兩者的配比為0.5:1或0.62:1,如果光敏 劑少,成膜樹(shù)脂多,則耐堿性降低,網(wǎng)點(diǎn)易損失,殘膜率 低,直接降低印版耐印力。 

    PS版感光劑的涂布需用專用涂布機(jī),才能保證涂 布后的感光層厚薄均勻。涂布機(jī)一般分為單張版和卷 筒版兩類。在涂布方式上,有鋪流式、輥涂式、擠壓 式和靜電涂布式。我們不提倡使用離心式涂布。我國(guó) 常用輥涂式,為保證涂布質(zhì)量,一般陰圖型感光層固 體含量為 1g/m2左右。陽(yáng)圖型為 2-2.5g/m2,厚度一 般為(20±1.0)mg/dm2。當(dāng)涂布產(chǎn)生橫向條紋等故 障時(shí)應(yīng)及時(shí)排除。

    三、PS版的制版

    PS版制版的關(guān)鍵是最大限度地再現(xiàn)膠片的網(wǎng)點(diǎn)和階 調(diào),在印版表面形成牢固的親油基礎(chǔ)和穩(wěn)定的親水基礎(chǔ)。 否則,不僅浪費(fèi)了時(shí)間,更嚴(yán)重的是降低了印版耐印大, 浪費(fèi)版材。直接影響制版質(zhì)量的一系列因素包括制版原 版.PS版的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性,制版設(shè)備和條件。制版工藝和操 作,特別是曝光、顯影條件等。

    1.曬版原版

  PS版的陽(yáng)圖或陰圖原版,可用傳統(tǒng)的照相制版、電 子分色及照排等方法制成。除了階調(diào)再現(xiàn)曲線應(yīng)有所調(diào) 整外,還必須注意原版的密度反差和網(wǎng)點(diǎn)光潔度。由于 原版的Y值過(guò)低,曝光、顯影不足或減薄過(guò)度等原因。容 易形成密度低的軟性網(wǎng)點(diǎn)或者是中間密度大,邊緣密度 小的活性網(wǎng)點(diǎn)。這兩類網(wǎng)點(diǎn)的曬版穩(wěn)定性差,曝光、顯 影稍有變化,就會(huì)使印版深淺不一,從而直接影響印版 耐印力。硬性網(wǎng)點(diǎn)的原版,由于密度高,網(wǎng)點(diǎn)光潔,曝 光和顯影的寬容度都較大。所以質(zhì)量穩(wěn)定。因此,曬版 用原版字跡圖案必須清晰且要密度大,反差大。以華光 牌YZ-600 11型膠片為例.原版最大密度應(yīng)在4.0以上。 最小密度在0.05以下,反差系數(shù)在8.0以上,版面清潔 減少灰霧度和拼貼。

    2.曬版光源

    對(duì)于曬版光源。由于感光劑的感光是一個(gè)氧化還原反 應(yīng)。只有感光劑充分吸收T足夠的光能才能發(fā)生,并且它的分解、交聯(lián)、合的程度是和所需光線強(qiáng)度和光照時(shí)間 成正比的,因此,曬版光源的發(fā)射光譜與感光劑光敏曲線 的敏感區(qū)應(yīng)盡量匹配。實(shí)驗(yàn)證明,陽(yáng)圖型感光刺的分光感 度在300nm-460nm以內(nèi),附圖型在200nm-500nm以內(nèi)。 考慮到曬版原版和曬版玻璃的影響。光譜設(shè)計(jì)在350nm-460nm區(qū)域內(nèi)較適宜,因此,現(xiàn)在曬制PS版的較理想光 源為碘鎵燈。

    3.曝光量

    在正常的制版過(guò)程中。曝光量是影響網(wǎng)點(diǎn)變化和版面 深淺的最主要因素。我們知道,曬版曝光量=照度×?xí)癜?時(shí)間。由于常用的PS版陽(yáng)圖型屬于光分解型。因此,當(dāng)曝 光量超過(guò)臨界光量值,即曝光過(guò)度時(shí),網(wǎng)點(diǎn)就會(huì)縮小,細(xì) 筆劃和小網(wǎng)點(diǎn)難以再現(xiàn);當(dāng)曝光量小于臨界光量值,即曝 光不足時(shí)。網(wǎng)點(diǎn)就會(huì)相應(yīng)擴(kuò)大變粗。使版面起臟,影響版 面深淺。因此,在曬版過(guò)程中,對(duì)于曝光量的控制。應(yīng)采 用連續(xù)調(diào)發(fā)梯尺或是布魯納爾測(cè)試條進(jìn)行監(jiān)控,其作用就 是在顯影后檢查曝光量是否合適。一般打樣版控制在3-4級(jí)(密度為0.4-0.55),印刷版控制在4.5-5.5級(jí)(密 度為0.625-0.775)曬白不吸墨。在曬制陽(yáng)圖版時(shí),如能 將0.5%的小點(diǎn)子和99.5%空心點(diǎn)子成對(duì)曬出來(lái),這樣的 印版才算合格。

     4.顯影
    PS版的顯影在于去除空白部分的感光層,使PS版版 基表面保持親水性能。它是PS版制版過(guò)程中的重要環(huán)節(jié), 不僅受感光劑性質(zhì)和原版狀態(tài)的制約,更受到顯影條件如 顯影液的濃度、溫度、疲勞程度以及顯影時(shí)間等的影響。

 ?。?)濃度的影響

   

 

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