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太陽化學創(chuàng)新油墨科技獎亮相美國標簽展

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2009-04-15  來源:SpecialChem  作者:佚名  瀏覽次數:759

  太陽化學公司(Sun Chemical)將參加即將舉辦的2008美國標簽展(Labelexpo Americas 2008),并在展會上展出太陽化學公司在標簽和窄幅印刷領域的最新產品,這些產品將可以幫助用戶提高生產效率和生產安全性。并且太陽化學還將在展會上,向參會觀眾推廣其在電子印刷和數字印刷領域所取得的最新技術進展。

  據SpecialChem了解,即將在本次標簽展上亮相的太陽化學窄幅印刷產品將包括標簽保護以及電子印刷領域的創(chuàng)新技術。而且太陽化學還會推出全新的UV柔版印刷和水性柔版印刷產品。

  太陽化學的展臺設在展廳內6123號,作為本次參展的宣傳口號-“伴您成功”,太陽化學還帶來能夠為窄幅印刷和標簽印刷行業(yè)提升質量的技術解決方案。

  “我們非常高興能把最新的印刷產品引進到北美市場,”太陽化學特種油墨部門負責人Michael Kellen,“標簽展將是太陽化學公司推出相關技術和產品的一個良好平臺。尤其是太陽化學Solaris系統(tǒng)產品,可以為標簽印刷和窄幅印刷工業(yè)帶來諸多便利和優(yōu)勢,提高行業(yè)生產效率、縮小操作空間、降低固話釋放氣體、降低體系對濕度的敏感性、提高油墨的基材附著力和各種抗性?!?/P>

 

 
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