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富士膠片將展出DLE柔印CTP系統(tǒng)

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2011-08-02  來源:標(biāo)簽與貼標(biāo)  作者:佚名  瀏覽次數(shù):713

  即將召開的Labelexpo Europe展覽會上,富士膠片公司將展出其最新開發(fā)的B2幅面直接激光雕刻(direct laser engraving,英文縮寫DLE)柔印CTP制版機(jī)。富士膠片的展位號是7N25。富士膠片開發(fā)的新型DLE柔印版材和多通道CTP制版機(jī),共同構(gòu)成了一個全新的柔印制版系統(tǒng),為標(biāo)簽和包裝柔印應(yīng)用提供了超高質(zhì)量的圖像還原。

    據(jù)富士膠片公司介紹,與通用型的激光熔蝕面罩(Laser Ablation Mask,英文縮寫LAM)系統(tǒng)相比,DLE柔印CTP系統(tǒng)制版速度更快,環(huán)保性能更優(yōu)。DLE柔印CTP系統(tǒng)不再需要像LAM技術(shù)那樣使用多步處理技術(shù)(UV曝光、溶劑或熱加工處理,干燥)。它采用的是固化良好的版材,這種版材是利用獨(dú)特的聚合反應(yīng)技術(shù)生產(chǎn)的,同時利用數(shù)字化控制的雕刻技術(shù)進(jìn)行制版,這意味著網(wǎng)點(diǎn)的外形更加準(zhǔn)確,因此圖像還原更加銳利,細(xì)節(jié)刻畫更加生動。

    富士膠片的DLE柔印制版系統(tǒng)更環(huán)保,因?yàn)樗辉傧馤AM技術(shù)那樣使用很多的處理設(shè)備,同時其VOC排放基本為零,也不再需要高溫版材干燥設(shè)備,制版能耗進(jìn)一步降低。


 

 

 
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