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激光凹版雕刻的基本原理和實(shí)現(xiàn)方式

  • 發(fā)布日期:2007-02-06 瀏覽次數(shù)503
從原理上講,激光凹版雕刻是應(yīng)用一路或多路高能激光束,在滾筒表面的待雕刻材料(金屬層或基漆層)上,燒蝕出網(wǎng)穴或露銅的網(wǎng)穴形狀,直接形成網(wǎng)穴印版,或?yàn)楹罄m(xù)加工網(wǎng)穴做好準(zhǔn)備。

    從上面所給出的基本原理可以知道,這其中包含了兩種略有差異的雕刻技術(shù)。第一種是用高能量激光直接雕刻滾筒金屬表面,形成凹版網(wǎng)穴。就目前的技術(shù)水準(zhǔn)而言,直接雕刻銅層還未獲得成功。瑞士Daetwyler公司采取了雕刻鋅層的妥協(xié)方法,實(shí)現(xiàn)其激光雕刻的目標(biāo)。第二種則是在銅滾筒上先涂覆黑色基漆層,用激光燒蝕網(wǎng)穴區(qū)域,使網(wǎng)穴處的銅層裸露出來(lái),非網(wǎng)穴處由基漆保護(hù)抗蝕,待腐蝕后即可獲得凹下的網(wǎng)穴。盡管從基本原理上兩者的差異似乎并不大,但從網(wǎng)穴特征、工藝過(guò)程等細(xì)節(jié)上分析,兩者還是各具特色的。
 

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