借助激光這種高效能手段進行印版制作，是印前處理及制版領(lǐng)域長期不懈努力的目標。作為一種高能量、高性能的記錄工具，自20世紀70年代以來，激光就已經(jīng)在膠印、凹印制版領(lǐng)域發(fā)揮著日益重要的作用。在計算機圖文信息處理的基礎(chǔ)上，使用激光對膠片和膠印印版的圖文記錄輸出是目前最常見的及最有發(fā)展前途的膠印制版方法。所謂"ctfilm"，"ctplate"中理所當然地包含了激光印版記錄。 

眾所周知，機械電磁式的凹版電子雕刻機是德國海爾(hell gmbh)公司于1962年發(fā)明的。這與激光的發(fā)明時間很接近。實際上，該公司的技術(shù)人員當時就試圖利用激光進行鍍銅滾筒的雕刻，但由于銅對光線的高反射率而未能成功，他們轉(zhuǎn)而投入高能電子束雕刻的研究并取得了成功。 

凹印版的激光記錄開始于1977年，當時，英國crosfieldelectronics公司曾使用激光在帶聚合物樹脂層的凹印滾筒上雕刻出網(wǎng)穴，制作出凹版滾筒。盡管由于質(zhì)量穩(wěn)定性等原因，該系統(tǒng)并沒有真正大量地投入實用，但作為一種有益的技術(shù)研究和探索卻為激光凹印版的制版指出了可以繼續(xù)發(fā)展的途徑。 

2000年5月在德國杜塞爾多夫舉行的印刷盛會drupa2000上，人們看到，激光印版記錄技術(shù)全面進入實用化階段，除用于平印ctplate的技術(shù)成為熱點以外，多家廠商都推出了凹印印版和柔性版的激光制版設(shè)備，成為ctc(computerto cylinder)的一個亮點。 

一、激光雕刻凹版技術(shù)的類型 

就凹版網(wǎng)穴的類型而言，通常有四種類型，即：面積可變網(wǎng)穴、凹下深度可變網(wǎng)穴、面積和凹下深度都可變網(wǎng)穴、調(diào)頻網(wǎng)穴。在目前的技術(shù)發(fā)展水平上，這四種網(wǎng)穴的激光雕刻都已實現(xiàn)。 

1．面積可變網(wǎng)穴 

顧名思義，該類網(wǎng)穴僅通過改變其開口面積再現(xiàn)圖像的階調(diào)層次變化。顏色深處網(wǎng)穴面積較大，而顏色淺處網(wǎng)穴面積較小，網(wǎng)穴的凹下深度不變。就此特點而言，類似于膠印網(wǎng)點的圖像再現(xiàn)原理。故此，該類凹版也稱為"網(wǎng)點凹版"。 
應(yīng)當注意的是，雖然其圖像階調(diào)再現(xiàn)的基本原理與膠印類似，但其網(wǎng)穴的結(jié)構(gòu)卻不能脫離凹印版的基本技術(shù)要求，這就是：必須形成并保留網(wǎng)墻，不能在印版上出現(xiàn)大面積的無網(wǎng)墻實地。因此，從網(wǎng)穴的微觀結(jié)構(gòu)上講，它與平印網(wǎng)點并不等同。 

2．凹下深度可變網(wǎng)穴 

這是最典型的凹版網(wǎng)穴，常被稱為"經(jīng)典凹版"或"傳統(tǒng)凹版"。該類網(wǎng)穴僅通過改變其網(wǎng)穴凹下深度再現(xiàn)圖像的階調(diào)層次變化。顏色深處網(wǎng)穴凹下較深，而顏色淺處網(wǎng)穴凹下較淺，網(wǎng)穴的面積不變。由于網(wǎng)穴面積相同，故網(wǎng)墻的厚度是等同的。 

3．面積和凹下深度都可變網(wǎng)穴 

在機械電磁式電子凹版雕刻機所雕刻的滾筒上?？梢娺@種網(wǎng)穴，它是非激光式電雕凹版最常用的網(wǎng)穴類型。其網(wǎng)穴特點是：顏色深處網(wǎng)穴開口面積和凹下深度都大，面顏色淺處網(wǎng)穴開口面積和凹下深度都小，顯然網(wǎng)墻的厚度是不相等的。 

4．調(diào)頻網(wǎng)穴 

將調(diào)頻加網(wǎng)的原理應(yīng)用到凹版上，可以生成調(diào)頻網(wǎng)穴凹版。其網(wǎng)穴特點是：面積相同，而在凹印版上出現(xiàn)的空間位置隨機變化。同樣，為了在圖像的暗調(diào)區(qū)域不出現(xiàn)大面積無網(wǎng)墻"地帶"，調(diào)頻網(wǎng)穴的空間位置應(yīng)受到合理的控制，不能完全隨機。 

二、激光凹版雕刻的基本原理和實現(xiàn)方式 

從原理上講，激光凹版雕刻是應(yīng)用一路或多路高能激光束，在滾筒表面的待雕刻材料(金屬層或基漆層)上，燒蝕出網(wǎng)穴或露銅的網(wǎng)穴形狀，直接形成網(wǎng)穴印版，或為后續(xù)加工網(wǎng)穴做好準備。 

從上面所給出的基本原理可以知道，這其中包含了兩種略有差異的雕刻技術(shù)。第一種是用高能量激光直接雕刻滾筒金屬表面，形成凹版網(wǎng)穴。就目前的技術(shù)水準而言，直接雕刻銅層還未獲得成功。瑞士daetwyler公司采取了雕刻鋅層的妥協(xié)方法，實現(xiàn)其激光雕刻的目標。第二種則是在銅滾筒上先涂覆黑色基漆層，用激光燒蝕網(wǎng)穴區(qū)域，使網(wǎng)穴處的銅層裸露出來，非網(wǎng)穴處由基漆保護抗蝕，待腐蝕后即可獲得凹下的網(wǎng)穴。這就是德國hell公司在drupa2000上推出的heliobeam c2000所采用的技術(shù)方案。 
盡管從基本原理上兩者的差異似乎并不大，但從網(wǎng)穴特征、工藝過程等細節(jié)上分析，兩者還是各具特色的。 

三、兩種激光凹版雕刻技術(shù)的比較 

1．激光雕刻凹版基漆層技術(shù) 

以德國hell公司的heliebeam c2000系統(tǒng)為代表，激光雕刻凹版基漆層技術(shù)成為drupa2000上激光雕刻凹版的新熱點。 

德國hell公司的激光雕刻凹版方案的實質(zhì)是：充分利用激光記錄的高分辨率，使激光在基漆上燒蝕出的網(wǎng)穴輪廓、文字、圖形輪廓達到高精度。網(wǎng)穴輪廓面積隨圖像顏色的深淺明暗而變化。因此，經(jīng)過后續(xù)腐蝕處理所得到的網(wǎng)穴屬于前述的"面積可變、凹下深度不變網(wǎng)穴"(實際上，在腐蝕過程中，網(wǎng)穴輪廓面積的大小仍然會在一定程度上影響網(wǎng)穴腐蝕深度)。熟悉膠印制版的人員會發(fā)現(xiàn)，這是"平印化"的凹版。&n