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平臺(tái)兩側(cè)雕刻深淺不均勻

  • 發(fā)布日期:2010-07-13 瀏覽次數(shù)435

    在平臺(tái)的一邊雕刻的很清晰,深度也滿意,質(zhì)量很好,而在另一側(cè)則很模糊,深度變淺,質(zhì)量很差。

    故障原因:焦距不準(zhǔn)。
    解決方案:重新對(duì)焦。

    故障原因:激光系統(tǒng)臟了。
    解決方案:清潔所有光學(xué)部件,導(dǎo)軌, 軸承和皮帶。

    故障原因:材料不水平或厚度不一致。
    解決方案:檢查不同位置的焦距, 使用更多的厚度一致的材料。

    故障原因:平臺(tái)不水平。
    解決方案:使用對(duì)焦工具, 在平臺(tái)的四個(gè)角測(cè)量焦距. 平臺(tái)的高度差應(yīng)在+/-0.20英寸范圍內(nèi). 如果需要的話進(jìn)行調(diào)整。

    故障原因:激光束沒有對(duì)中。
    解決方案:檢查調(diào)整激光束對(duì)中。

    故障原因:空氣助推器的錐形部件方向偏離 (帶有空氣助推器的機(jī)型)。
    解決方案:檢查并調(diào)整此部件方向準(zhǔn)確。

    故障原因:激光管工作不正常
    解決方案:更換激光管。

 

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